上海励兆科技打造射频等离子体产品线，发布远程等离子源新品SS-10

2024年8月，上海市闵行区浦江智慧广场，励兆科技总部讯：

在公司成立两周年之际，半导体设备关键零部件射频/等离子系统供应商上海励兆科技正式向市场发布了远程等离子解决方案新品 – 南海系列（SS series）具备先进氧化铝涂层的远程等离子源（Remote Plasma Source）; 该产品配有硬阳极氧化（HA, Hard Anodization）或微弧氧化（MAO, Micro-Arc Oxidation）两种腔体表面涂层工艺，广泛用于半导体前道薄膜沉积工艺腔体清洗,以及FCVD等远程等离子体参与制程反应的工艺应用。

这是励兆科技继年初发布东海系列（ES series）石英腔射频远程等离子源之后，在远程等离子源产品取得的进一步突破；丰富的远程等离子源产品为励兆科技成为在半导体设备领域的最先进的等离子系统全面解决方案供应商奠定了坚实的基础。除了远程等离子产品外，在过去两年里，励兆科技开发了4个系列的射频电源，和30多款射频匹配器，覆盖了刻蚀、薄膜沉积（PECVD/PVD/ALD）、去胶和离子注入中绝大部分的工艺应用，并获得了市场的认可。与此同时，公司在上海浦江园区及临港奉贤园区建设了3000多平米的办公和研发空间，以及总计4000多平米的生产车间，以逐步扩充产能。励兆科技总经理赵馗在访谈中表示，励兆团队熟悉半导体工艺应用，在技术支持方面，能快速响应客户的要求，解决现场的问题，赢得了客户的信赖。未来公司将持续投入研发，建立更加丰富的产品组合，以满足客户不断迭代的工艺应用需求。

南海(SS)系列远程等离子源

远程等离子源(RPS)产品是一种利用电磁耦合原理，产生射频能量把产品内部腔体的气体激发成等离子体的装置。远程等离子源独立存在于用户真空腔体之外，它产生的等离子体经过扩散和运输之后以自由基(Radicals)为主参与用户腔体内各种工艺需求，包括腔体清洁或参与特定制程工艺反应。

励兆南海系列远程等离子源采用400Khz射频系统和具备先进氧化涂层工艺的铝腔为自身的反应腔体，可以处理包括NF3/NH3/H2/H2/O2/Ar/He在内等等各种特殊气体，满足半导体前道先进工艺的各种需求，尤其是各种半导体薄膜沉积工艺腔体的远程等离子体清洁需求。

远程等离子体清洗是利用三氟化氮(NF3)气体在等离子体作用下离化为F-、F*等活性自由基，具有高能量的这些基团和二氧化硅、氮化硅等反应，形成挥发相氟化硅，从而清除工艺过程中在腔室除衬底表面其余部位的二氧化硅、氮化硅薄膜残余积累，达到腔室清洗的效果。

SS-10远程等离子源

SS-10 作为励兆南海系列远程等离子源首款面试的产品，它的设计功率为2~10kW，点火窗口推荐值为Ar 1~5Torr，1~5SLM，NF3工艺窗口推荐值为1~10Torr，1~8SLM，可以根据客户使用场景进行不同程度的扩展。根据当前的内部测试结果和Beta样机在客户端的表现，该产品在点火性能和转换效率方面表现出不错的技术优势。

关于上海励兆科技

上海励兆科技有限公司成立于2022年8月，创始团队由海内外知名高校博士、硕士组成，拥有丰富的射频电源系统和半导体设备等离子体应用相关的研发与集成经验。经过两年的产品和市场开发，目前公司已经具备为各种先进半导体工艺设备提供全面射频和等离子系统解决方案的技术能力（Total RF & Plasma Solution），主要产品包括支持多级脉冲和高级扫频功能的先进射频电源（RF Generator），单频/混频全自动射频匹配器（RF Matcher），石英腔或铝腔射频远程等离子源（Remote Plasma Source），以及射频调谐器（RF Tuner）/射频滤波器（RF Filter）/静电吸盘高压模块（ESC HV）等等。

目前励兆科技已经开放上述产品与客户间的合作与销售，并欢迎有兴趣的客户浏览公司官网(http://www.smet-inc.com/)或与公司直接联系，联系邮箱是[email protected].