中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®系列第500台付运

集微网消息，近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）的电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®系列第500台反应腔顺利付运国内一家先进的半导体芯片制造商。这是中微公司的又一重要里程碑，标志着ICP刻蚀设备的刻蚀性能、机台稳定性和大规模量产能力已得到先进逻辑和存储客户的广泛认可。本批次运付的ICP刻蚀设备Primo nanova®系列产品，均来自该客户的重复订单。

此次付运的Primo nanova®是中微公司针对先进的工艺节点与生产线的各种关键应用，基于电感耦合（ICP）技术研发的12英寸刻蚀设备，适用于先进的逻辑芯片、DRAM存储芯片以及3DNAND存储芯片的刻蚀。

Primo nanova®最多可配置六个刻蚀反应腔和两个可选的除胶反应腔。其中，刻蚀反应腔采用对称设计，具有高反应气体通量，其内部涂有的高致密性、耐等离子体侵蚀材料，减少刻蚀的负载效应并保证了更高的工艺重复性和生产率。此外，Primo nanova®发射天线的低电容耦合 3D线圈设计，可实现均匀的等离子密度，减少等离子体对陶瓷顶盖的轰击。Primo nanova®的下电极采用了可实现多区动态温控的静电吸盘，或可选用能实现更多区域温度调节的 Durga 静电吸盘，使其加工的晶圆内的关键尺寸达到高度均匀性。客户表示非常看重Primo nanova®在大规模生产中稳定可靠的性能表现、显著提升的生产率和相对较低的生产成本等方面的优势。

凭借独特的创新技术和差异化设计，中微公司等离子体刻蚀设备不断扩大市场占有率，在国内外半导体前道设备行业占据领先地位。2023年，中微公司营业收入约62.64亿元，较2022年增加约15.24亿元，同比增长约32.15%。其中，2023年刻蚀设备收入约47.03亿元，同比增长约49.43%。占公司营业收入约 75.1% 的刻蚀设备在2021年和2022年分别增长了55.4%和57.1%。公司2023年新增订单总金额约83.6亿元，较2022年增加约20.4亿元，同比增长达32.3%，其中刻蚀设备新增订单达69.5亿元，同比增长约60.1%。此外，中微公司综合竞争优势不断增强，各项营运KPI指标已达到并在一些方面超过了国际先进半导体设备企业水平。在过去的十年中，中微公司的营业收入一直以高于35%的年平均增长速度持续增长。

中微公司副总裁、ICP产品部总经理陈煌琳谈及这一付运里程碑时表示，中微公司始终紧跟先进制程工艺发展的最前沿，坚持原创创新设计，和国际领先的半导体客户公司同步前行。中微公司总结过往经验形成的“四个十大”的企业文化中，“产品开发的十大原则”首要强调的就是 “为达到设备的最高性能和客户最严要求而开发”。正是中微公司的领先技术及专业服务使我们的刻蚀设备产品赢得了厂商的青睐，这是一种荣誉，更是一种动力。未来，我们也将持续为客户和市场提供性能优越、高生产效率和高性价比产品，不断促进技术创新、引领行业发展的同时帮助客户实现技术和盈利目标。