京东方一种掩膜板及其制作方法相关专利获授权

集微网消息，天眼查显示，成都京东方光电科技有限公司近日取得一项名为“掩膜板及其制作方法、显示基板及其封装方法、显示装置”的专利，授权公告号为CN108598281B，授权公告日为2024年3月15日，申请日为2018年4月27日。

本发明公开一种掩膜板及其制作方法、显示基板及其封装方法、显示装置，涉及掩膜板技术领域，为解决在对显示器件封装的过程中，由于产生的Under Coating的厚度较厚，导致显示器件的封装效果受到影响的问题。所述掩膜板，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条，所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条，所述第一掩膜条和第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区，所述开口区用于形成膜层图案；所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧上设置有凸起的挡块结构。本发明提供的掩膜板用于封装显示器件。