北方华创：全新12英寸PECVD设备交付客户

11月1日，北方华创发文称，近日其自主研发的高均匀性、大产能12英寸等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备——Cygnus系列，已成功交付客户。这一里程碑标志着北方华创在半导体设备制造领域的又一重大突破，进一步巩固了其在薄膜沉积技术的领先地位。

Cygnus系列PECVD设备主要用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、碳氮化硅等多种高品质介质薄膜，满足逻辑、存储和先进封装对钝化层、隔离层、抗反射层、刻蚀停止层等多样化的应用需求。该设备采用多站位多步沉积工艺方式，实现了高均匀性、高产能，工艺一致性更好、可靠性更高，不仅满足现有逻辑、存储领域对介质薄膜生长的工艺要求，同时解决了大翘曲硅片的传输和工艺均匀性难题，可适用于2.5D/3D三维器件工艺的介质薄膜生长。

北方华创在PECVD设备领域深耕多年，自2012年推出EPEE 550系列PECVD设备以来，已在客户端销售近千台，并在2019年推出EPEE i200/800系列PECVD设备，为近百家客户提供介质薄膜生长解决方案。2022年，公司推出的Lyra系列12英寸介质薄膜生长PECVD设备，以其优良的工艺结果和设备的高稳定性赢得了多家主流客户的认可。