华海清科“一种化学机械抛光系统及抛光方法”专利获授权

天眼查显示，华海清科股份有限公司近日取得一项名为“一种化学机械抛光系统及抛光方法”的专利，授权公告号为CN115194640B，授权公告日为2024年10月18日，申请日为2022年8月15日。

本发明公开了一种化学机械抛光系统及抛光方法，所述抛光系统包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；其中，所述清洗单元包括第一清洗单元和第二清洗单元，其沿竖直方向层叠设置；所述第一清洗单元和第二清洗单元包括晶圆传输机械手和多个晶圆后处理装置，所述晶圆后处理装置围绕所述晶圆传输机械手设置。