新维度产业级纳米压印模板制造线已于节前就位！

2024年9月底，苏州新维度微纳科技有限公司突破重重艰难，历经两年时间，终于成功引进了国际某著名电子束光刻设备厂家的产业级电子束光刻设备。这一里程碑标志着新维度建成了国内首条专业的纳米压印模板制造线，打造纳米压印技术领域全生态产业链的高精度制造平台迈出了重要一步。

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引进了先进的工业级电子束光刻设备

本次引进的电子束光刻设备融合了厂家的最新研发成果，以其卓越的性能跻身世界顶级行列。该设备具备大写场和高精度拼接加工能力，结合了高功率及高可靠性设计，不仅能够满足超越极紫外光刻技术的高分辨率和高精度图形化能力，还能满足高精度大尺寸纳米压印技术对高品质模板日益增长的需求。无论在科研还是在产业应用领域中，该设备均展现出显著的发展潜力和广泛的应用前景。

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电子束光刻设备是高精度纳米压印制造的关键环节

众所周知，电子束光刻是图案生成技术，而光刻技术、纳米压印是图案复制技术。电子束光刻能够实现纳米级别的分辨率，是实现高精度纳米压印制造不可或缺的关键环节，它为纳米压印提供了高精度和高灵活性的模板制造能力，是纳米压印制造的“起点”。

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新维度具备多年的高精度纳米压印模板制造经验

新维度团队在高精度纳米压印模板制造领域有着长期的研究和持续的积累。公司在电子束光刻加工模板技术领域，以及柔性模板制造加工技术方面均具有丰富的制造加工经验。通过引进高性能产业级电子束光刻设备，使新维度公司不但具备普通的高精度纳米压印模板加工制造能力，而且可以加工各种闪耀光栅、倾斜光栅等三维结构的纳米压印模板，以满足不同领域客户对高精度纳米压印产品的多样化需求。

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纳米压印模板制造线是新维度打通全工艺链的里程碑

通过引进高性能电子束光刻设备，新维度公司完成国内首条专业的纳米压印模板制造线，搭配新维度公司已完成的8英寸纳米压印研发线、6英寸纳米压印中试线以及4/8英寸纳米压印全自动生产线，已建成完整的国内领先的高精度纳米压印平台产品研发、产品生产线，打通了从高精度模板制造到批量化生产的全部纳米压印技术工艺链。此举不仅减少了对国外发达国家在纳米压印模板制造技术上的依赖，也标志着纳米压印技术从实验室研究走向工业规模生产的关键一步。

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展望未来

新维度将始终以纳米压印高精度制程能力为基础，以纳米压印制造FOUNDRY的发展模式为目标，专注于为客户的设计提供工艺实现方案、为产品的制造、快速升级迭代、量产研发以及大规模生产提供全面的支持和服务。

先进的产业级电子束光刻设备的引入对纳米压印制造FOUNDRY的目标至关重要，此举将促进纳米压印技术在多个潜在应用领域的渗透和导入！

科普区

什么是电子束光刻技术？

电子束光刻技术，在微电子制造领域具有重要地位，为半导体产业的发展提供了强大的技术支持，是制造深紫外光刻掩膜和极紫外光刻掩膜的必要技术之一，被誉为“工业母机”。那么，什么是电子束光刻技术呢？

顾名思义，电子束光刻技术就是利用电子束作为“刻刀”，在特定的材料表面上“雕刻”出精细的图案。通过精确控制电子束这个特殊“刻刀”的聚焦和偏转，实现对材料表面的高精度“雕刻”。与传统的光刻技术相比，电子束光刻技术具有更高的分辨率和灵活性，无需光掩膜，能够实现纳米级别的加工精度，并能雕刻出任意所需的图案。

那么，电子束光刻技术是如何工作的呢？首先，需要将待加工的材料放置在电子束光刻设备的样品台上。然后，通过电子枪产生高能电子束，经过电磁透镜系统的聚焦和偏转，将电子束精确地照射到材料表面。在电子束的作用下，材料表面化学性质发生变化，最终通过显影等后续工艺形成所需的图案。

电子束光刻技术在微电子制造领域具有广泛的应用前景。例如，在半导体器件制造中，电子束光刻技术可以用于制备高分辨率的光刻掩模，提高器件的性能和集成度。此外，在纳米科技、生物医学等领域，电子束光刻技术也展现出巨大的潜力。例如，利用电子束光刻技术可以制备出具有特殊功能的纳米结构材料。

当然，电子束光刻技术并非完美无缺。由于其设备成本较高、加工效率相对较低等问题，限制了其在大规模生产中的应用，目前主要应用于研发和小规模生产。然而，随着科学技术的不断发展，我们有理由相信，电子束光刻技术将会在微纳制造领域发挥更加重要的作用。

总之，电子束光刻技术作为一种先进的微纳加工技术，在推动科技进步和产业发展方面具有重要意义。谁掌握了这项技术，谁就在微纳加工技术领域有了“神兵利器”。