新美光“镀膜装置及镀膜调整方法”专利公布

天眼查显示，新美光（苏州）半导体科技有限公司“镀膜装置及镀膜调整方法”专利公布，申请公布日为2024年10月29日，申请公布号为CN118854228A。

本申请实施例涉及一种镀膜装置及镀膜调整方法。其中，镀膜装置包括：壳体设有出气口，且壳体内部形成有反应腔室，出气口连通反应腔室；蒸发台用于对膜料进行加热并使其蒸发，膜料蒸发后形成气态膜料；安装组件用于安装衬底，气态膜料形成气流场并附着于衬底表面形成薄膜；格栅组件包括多条格栅与多个驱动件，格栅在驱动件的作用下调整张合状态；驱动件在控制器的控制作用下驱动格栅调整张合状态，以调整气流场分布，进而调整衬底表面形成的薄膜的均匀性。本申请实施例提供的镀膜装置能够调整衬底表面形成的薄膜的均匀性，进而提高衬底表面沉积均匀性。