消息称英伟达 RTX 50 显卡采用台积电 3nm 工艺

集微网消息 据kopite7kimi消息,英伟达 RTX 50 系列显卡所采用的 GB200 系列 GPU 将采用台积电 3nm 工艺。

据此前相关媒体报道,英伟达当前的 RTX 40 显卡采用“TSMC 4N”工艺,没有说明具体是几纳米工艺,有报道称是定制的 5nm 工艺。英伟达官方表示,在 TSMC 4N 定制工艺技术加持下,RTX 40 系列 GPU 实现了高达 2 倍的性能功耗比飞跃。

除了新工艺外,消息称 RTX 50 系列显卡将采用 GDDR7 显存,最高支持 384bit 位宽,接口包括 HDMI 和 DP 2.1,支持通过 PCIe 5.0 连接,供电采用改进版 12V-2x6 16pin 接口,发布时间可能是 2024 年底或 2025 年。


夕夕海 » 消息称英伟达 RTX 50 显卡采用台积电 3nm 工艺

发表回复