聚焦前沿技术,探索产业发展!东方晶源受邀参加第八届国际先进光刻技术研讨会

10月15日-16日,第八届国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions,IWAPS)在浙江嘉兴盛大开幕,来自国内外众多科研机构、高校、名企的近600位专家学者、企业家、青年学者齐聚一堂,分享各自在前沿课题上取得的新突破,展示学术新成果。

东方晶源作为国内计算光刻领域的先行者、领导者、探索者亮相本次大会,带来最新研发成果,与业界代表共同探讨最新技术动态。两天的会议中,东方晶源展台持续火爆,关于反向光刻ILT技术、PanGen DMC®等新突破和新产品成为大家竞相交流探讨的话题。

在专题报告环节,东方晶源技术专家作为大会的特邀报告人带来题为《PanGen DMC® :AI powered solution for fast design manufacturability check》的报告。PanGen DMC®是东方晶源在年初围绕业界痛点问题推出的新产品,致力于使用户可以基于原始Design快速、精准估计该Design最终硅片上的形貌(Contour),进而提前预知设计版图存在的潜在风险。近期在国内某先进节点FAB内实测结果表明,东方晶源PanGen DMC®在全芯片尺度上预测结果与实际的差距在超过99%的版图位置上小于1nm。

在报告中,东方晶源技术专家就PanGen DMC®产品最为核心的D2C(Design To Contour)快速光刻反馈引擎、基于D2C的潜在热点检测、热点模型提高适应性等重点模块展开深入解读,展现出东方晶源在使用AI等新技术的领先性,以及创造性解决产业痛点问题的前瞻性。

截至目前,东方晶源在计算光刻领域已构建起全面且领先的技术体系,旗下计算光刻平台PanGen®已经形成八大产品矩阵,包括Model、DRC、SBAR、OPC、LRC、DPT、SMO、DMC,具备完整的计算光刻相关EDA工具链条,并已在国内各大Fab厂商广泛应用,量产掩模超6000张。同时,通过ILT技术革新、PanGen DMC®等新产品的推出,不断引领计算光刻的发展与变革,解决更多集成电路产业可制造性问题,为产业发展持续赋能。


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