长鑫存储“上电极机构与等离子体处理装置”专利公布

集微网消息，天眼查显示，长鑫存储技术有限公司“上电极机构与等离子体处理装置”专利公布，申请公布日为2024年3月15日，申请公布号为CN117711895A。

本公开涉及一种上电极机构与等离子体处理装置，上电极机构包括气体分配件以及晶体电极。气体分配件上设有多个第一出气孔。晶体电极与气体分配件相互贴合，晶体电极上设有多个第二出气孔，第二出气孔与第一出气孔一一对应连通设置。气体分配件的等离子体气体可以通过第一出气孔对应地输送给第二出气孔，经晶体电极的第二出气孔进入到反应腔室中，能保证基板表面的蚀刻的均匀性。此外，由于等离子体气体通过第一出气孔对应地输送给第二出气孔，便无需采用传统的密封圈对气体分配件输出的气体进行分区，进而可以将传统的气体分配盘上的密封圈给移除，从而不存在密封圈脱落、安装不到位、安装位置错误等缺陷，可以很大程度上保证不会发生泄漏。