TCL“图案化量子点薄膜的制备方法、光电器件与电子设备”专利公布

集微网消息，天眼查显示，TCL科技集团股份有限公司“图案化量子点薄膜的制备方法、光电器件与电子设备”专利公布，申请公布日为2024年4月5日，申请公布号为CN117835778A。

本申请公开一种图案化量子点薄膜的制备方法、光电器件与电子设备，所述制备方法包括步骤：在基板的一侧形成量子点膜层，量子点膜层包含配体去除剂和表面连接有配体的量子点，然后对量子点膜层进行部分曝光处理以使量子点膜层包括曝光部分和未曝光部分，接着去除未曝光部分，获得图案化量子点薄膜，具有图案分辨率高、普适性高、制备工序简单、不涉及配体交换等损伤量子点的工序、适用于大规模工业化生产的优点，所述制备方法能够应用于制备光电器件的发光层，可构建包含多种不同发光颜色量子点的单层结构发光层或多层结构发光层，将所述光电器件应用于电子设备中，有利于提高电子设备的显示清晰度和使用寿命。